FM噴槍的應(yīng)用_噴涂技法和設(shè)備的結(jié)合
高效的噴涂工具對涂裝技師來說就顯得尤為重要。HVLP/RP環(huán)保省漆/省漆高效K3系列高負荷壓送式面漆噴槍(表2),主要配合雙隔膜泵和涂料壓力罐連接使用,具有長時間高負荷生產(chǎn)的特點,非常適合噴涂生產(chǎn)線使用。如:汽車OEM涂裝線、巴士生產(chǎn)廠、、大面積工業(yè)噴涂和高科技納米材料大面積噴涂等。
表2 高負荷壓送式K3噴槍技術(shù)參數(shù)
高負荷壓送式 K3噴槍類型
噴涂 氣壓(巴) 耗氣量 (升/分鐘) 噴涂距離 (厘米) 噴幅 (厘米) 傳遞
效率
噴嘴口徑
HVLP K3系列 2.5 560 13-17 40 65% 0.8-1.0-1.2-1.6-2.0 RP K3系列 2.5 430 15-23 40 65% 0.8-1.1-1.3-1.5-1.7-2.0 良好的噴涂是噴涂設(shè)備和噴涂技法的完美組合。為了大限度提高噴槍的功能和性能: 1、根據(jù)不同霧化技術(shù)噴槍調(diào)節(jié)好更好的噴涂氣壓(表1);
2、將涂料流量調(diào)至大,如涂料吐出量過大,盡量不要將槍針過于前移,以免槍針過早磨損;
3、持噴槍噴涂時,噴槍的風帽應(yīng)與待噴工件的表面呈垂直狀(圖七);
4、噴槍移動時其軌跡要與噴涂表面保持平行,視使用不同噴槍,噴涂距離也不同(表1);
5、噴涂時,整個手臂移動通過工件表面,保持腕關(guān)節(jié)筆直,不可作弧線軌跡運行,以免產(chǎn)生涂膜顏色和涂層厚度不均勻現(xiàn)象;
6、在每個噴涂行程開始后觸發(fā)噴槍扳機,在每個噴涂行程結(jié)束之前釋放噴槍扳機; 7、視涂料類型不同,其噴幅重疊范圍為1/3-1/2不等;
8、視涂料類型不同,噴槍的運行速度為每秒30-50厘米選擇,以獲得更佳的漆膜厚度。
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FM霧化焚燒噴槍-上海斐卓噴霧系統(tǒng)有限公司
FM Air atomizing incineration spray gun
焚燒噴槍簡介焚燒系統(tǒng)
焚燒噴槍主要應(yīng)用于脈沖拋式爐排
焚燒爐、機械爐排焚燒爐、流化床焚燒
爐、回轉(zhuǎn)式焚燒爐和CAO焚燒爐等各種
類型的焚燒爐!焚燒爐原理是利用煤、
燃油、燃氣等燃料的燃燒,把將要處理
的物體進行高溫的焚毀碳化,以達到消
菌的目的。而焚燒噴槍主要是用來進行
廢液霧化,有以下優(yōu)點:
1、采用內(nèi)部混合式雙流體霧化,其混
合程度、霧化效果、燃燒速度效率極高,
過??諝庀禂?shù)低,可節(jié)約大量燃料;
2、霧化噴頭口徑大,對流體粘度、雜質(zhì)水平噴射
含量要求不高,不易堵塞;采用低壓噴
霧方式,較高壓噴槍式安全,不易磨損,
不易故障,燃燒效果好,霧化介質(zhì)可用
低壓蒸汽或空氣;
3、根據(jù)其焚燒工藝,焚燒噴槍也可用
在特有的流化床鍋爐進行焚燒,滿足眾
多的應(yīng)用要求。 焚燒噴槍實物圖
豎直噴射
尿素噴槍的詳細參數(shù):
尿素噴槍角度:90° 流量:0.6-3.8L/min 材質(zhì):303、316、310不銹鋼,哈氏合金 噴霧形狀:扇形
特點:1、產(chǎn)生平均粒徑為70微米 “微霧”的二流體扇形噴嘴。2、流量調(diào)整范圍較大,且噴霧角度變動小。3、噴霧形狀全區(qū)域內(nèi)的粒徑均勻。4、流量分布均等,適合于多數(shù)噴嘴排列使用,噴射距離遠,穿透力強。5、異物通過徑大,不易阻塞。6、結(jié)構(gòu)簡單,便于維護7、卡箍來回移動設(shè)計,安裝拆卸更加方便快捷,大大節(jié)省安裝、維修工作量。8、噴槍可采用氣缸推進系統(tǒng),方便噴槍自動推進,延長噴槍使用壽命。 主要用途:1、 脫硝:氨水、尿素等還原劑的噴灑。2、 冷卻:鍋爐尾氣、鑄件等的冷卻。3、 調(diào)濕:混凝土、廢氣加濕。4、 焚燒:廢水、廢液的焚燒.
脫硝工藝介紹
SNCR方法主要使用含氮的藥劑在982℃附近的溫度區(qū)域870~1200℃噴入含NO的燃燒產(chǎn)物中,發(fā)生還原反應(yīng),脫除NO,生成氮氣和水。
由于在一定溫度范圍,有氧氣的情況下,氮劑對NOx的還原,在所有其他的化學反應(yīng)中占主導(dǎo),表現(xiàn)出選擇性,因此稱之為選擇性非催化還原。
氨水與尿素在脫硝還原反應(yīng)中的適宜溫度
1、氨水溫度范圍較寬,在800~1100℃,還原率50%以上;
2、尿素在900℃還原效率達到80%以上,但溫度較窄,要達到50%以上的還原效率,溫度需在850~1000℃;
3、ZN系列噴槍霧化顆粒小,噴射距離遠,能夠大程度的增加還原劑與煙氣的接觸面積,減少反應(yīng)的時間,提高反應(yīng)效率,降低還原劑的消耗。
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