Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。 該系統(tǒng)采用ZDot?專利技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng),可以對(duì)各種不同的樣品進(jìn)行測(cè)量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級(jí)別的臺(tái)階高度。
Zeta-20的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot?測(cè)量模式可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。 ZDot或集成寬帶反射儀都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。 Zeta-20也是一種高端顯微鏡,可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。 Zeta-20通過(guò)提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。
主要功能
· 采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛的應(yīng)用
· 可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡
· ZDot:同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像
· ZXI:白光干涉測(cè)量技術(shù),適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量
· ZIC:干涉對(duì)比度,適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)
· ZSI:剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像
· ZFT:使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率
· AOI:自動(dòng)光學(xué)檢測(cè),并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化
· 生產(chǎn)能力:通過(guò)測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量
主要應(yīng)用
· 臺(tái)階高度:納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度
· 紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度
· 外形:3D翹曲和形狀
· 應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力
· 薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度
· 缺陷檢測(cè):捕獲大于1μm的缺陷
· 缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置