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| 品牌NBET | 所在地 | 起訂≥1 臺 |
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高端研發(fā)領域?qū)Ｓ玫亩嗳肷浣羌す鈾E偏儀，采用多項專利技術，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數(shù)測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合。 產(chǎn)品特點： 1.高精度、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型 8.強大的數(shù)據(jù)分析和管理功能 應用領域： 可應用于納米薄膜的幾乎所有領域，如微電子、半導體、生命科學、電化學、顯示技術、磁介質(zhì)及金屬處理等?？蓪{米層構(gòu)樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數(shù)k進行快速、高精度、高準確度的測量，尤其適用于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)及質(zhì)量監(jiān)控，可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構(gòu)模系，以及塊狀材料（基底）。
技術指標：
激光波長 |
632.8nm(He-Ne laser) |
膜層厚度精度 |
0.01nm(對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
折射率精度 |
1x10-4 （對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
光學結(jié)構(gòu) |
PSCA |
激光光束直徑 |
<1mm |
入射角度 |
40°-90°可選，步進5° |
樣品方位調(diào)整 |
三維平移調(diào)節(jié)；±6.5mm（X-Y-Z三軸） 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° 光學自準直系統(tǒng)對準 |
樣品臺尺寸 |
Φ 170mm |
單次測量時間 |
0.2s |
推薦測量范圍 |
0-6000nm |
最大外形尺寸（長x寬x高） |
887x332x552mm(入射角為90°時 |
儀器重量（凈重） |
25kg |
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