高純水設(shè)備用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件產(chǎn)品、單晶硅、多晶硅清洗需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。
高純水設(shè)備在設(shè)備設(shè)計(jì)上,采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)反滲透+EDI水處理工藝,確保處理后的超純水水質(zhì)符合要求,水利用率高,運(yùn)行可靠,經(jīng)濟(jì)合理。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品,全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
高純水設(shè)備工藝流程:原水—原水泵—石英砂過(guò)濾—活性炭過(guò)濾—阻垢劑加藥裝置—精密過(guò)濾器—一級(jí)高壓泵—一級(jí)反滲透系統(tǒng)—二級(jí)高壓泵—二級(jí)反滲透系統(tǒng)—純水—EDI膜塊—超純水