反滲透處理主要分離對象是溶液中的離子范圍。用反滲透方法處理的水，純度高，它不但能去除離子范圍的雜質(zhì)，還能去除有機(jī)污染物、微生物、病毒和熱原質(zhì)等用其它方法難去除的雜質(zhì)。一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率＜10μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率＜5μS/cm甚至更低，在一級反滲透系統(tǒng)后輔以混床離子交換設(shè)備或二級反滲透系統(tǒng)
CEDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率達(dá)到15-18兆歐姆(電導(dǎo)率=1/電阻率)。設(shè)備采用低壓或超低壓反滲透膜，脫鹽率達(dá)98%-99.9%，運(yùn)行壓力為0.7-2.OMpa?？蔀殡娏?、冶金、輕工、汽車、半導(dǎo)體、化工、制藥、食品、醫(yī)療衛(wèi)生、光伏電池片用水、太陽能真空管用水，車輪生產(chǎn)用水等行業(yè)提供高品質(zhì)的純水。
純水設(shè)備現(xiàn)在有幾種主要工藝：
預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)
預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)
預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
EDI純水模塊和RO反滲透在純水中的應(yīng)用
RO、EDI、樹脂離子交換是當(dāng)今制備純水的必選工藝設(shè)備。其中RO反滲透是當(dāng)今一項(xiàng)最實(shí)用的膜分離技術(shù)，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過程。可有效地去除水中的重金屬離子、鹽類、細(xì)菌等，去除率達(dá)到98%以上；EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ContinuousElectrodeionization（電解式連續(xù)去離子）為模塊式設(shè)備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停機(jī)再生，無需酸堿，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環(huán)保要求?？蓪⑺碾娮柚涤?.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠、電子、制藥、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設(shè)備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進(jìn)行離子交換的水處理技術(shù)；根據(jù)最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統(tǒng)的交換特性，可將系統(tǒng)分為：單床式離子交換除鹽系統(tǒng)、雙床式離子交換除鹽系統(tǒng)和混床式離子交換除鹽系統(tǒng)。
純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：
微電子行業(yè):電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)；
醫(yī)藥行業(yè)：醫(yī)藥注射用無菌水生產(chǎn)、口服液生產(chǎn)、藥劑生產(chǎn)純化水、血液透析用水
化學(xué)化工：超純化學(xué)試劑生產(chǎn)化工新材料生產(chǎn)；
其它：貴金屬冶煉、磁性材料生產(chǎn)、電子級無塵布生產(chǎn)、光學(xué)材料生產(chǎn)等
400-6352-900
