泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備
為滿足用戶需要,去離子水設(shè)備達(dá)到相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)(0.5-18 MΩ.CM),泉瑞去離子水設(shè)備盡可能地減少各級的污染,延長設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量。在工藝設(shè)計上,泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備取市政自來水為源水,流經(jīng)介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(或EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等處理,泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備可以使產(chǎn)水電阻值達(dá)到0.5-18 MΩ.CM?! ?br />
泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備典型工藝:
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)去離子水設(shè)備工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新去離子水設(shè)備工藝)
預(yù)處理-一級反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(最新去離子水設(shè)備工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新去離子水設(shè)備工藝)
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)去離子水設(shè)備工藝)
RO、 EDI、樹脂離子交換是當(dāng)今制備純水的必選工藝設(shè)備。其中RO反滲透是當(dāng)今一項最實用的膜分離技術(shù),是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過程??捎行У厝コ械闹亟饘匐x子、鹽類、細(xì)菌等,去除率達(dá)到98%以上; EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ConRinuous ElecRro deionizaRion(電解式連續(xù)去離子)為模塊式設(shè)備,可根據(jù)需要任意組合,該系統(tǒng)不需要停機(jī)再生,無需酸堿,因此廢水排放問題也得到解決,更符合環(huán)保要求??蓪⑺碾娮柚涤?.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠、電子、制藥、實驗室等領(lǐng)域制備高純水。
泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域:
▲電子工業(yè)用水:集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水
▲制藥行業(yè)用水:大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等
▲ 化工行業(yè)工藝用水:化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等
▲ 電力行業(yè)鍋爐補(bǔ)給水:火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統(tǒng)
▲ 食品工業(yè)用水:飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等
▲海水、苦咸水淡化:海島、艦船、海上鉆進(jìn)平臺、苦咸水地區(qū)
▲其它工藝用水:汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等