電鍍超純水設(shè)備

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純凈水設(shè)備在工業(yè)領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用，尤其是在電子行業(yè)。在工業(yè)飛快發(fā)展的時(shí)代中，純凈水設(shè)備在電子行業(yè)中占著舉足輕重的地位。電子產(chǎn)品的質(zhì)量的成品率，有時(shí)候就取決于純凈水設(shè)備產(chǎn)出水質(zhì)的好壞。不同種類的電子器件在生產(chǎn)過程中，所需要的純凈水水質(zhì)也不同。通常一個(gè)電子產(chǎn)品制造周期的20%的生產(chǎn)過程中需要使用到超純水。濕法工藝設(shè)備使用的流體中有50%以上為超純水，隨著環(huán)保要求的提高，這一比例還在不斷提高?！?/p>

除此之外，太陽能光伏行業(yè)生產(chǎn)過程對生產(chǎn)用水使用要求非常高，集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，對超純水制備工藝出水水質(zhì)的要求也越嚴(yán)格。目前國家工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。使用電子級超純水設(shè)備可以制取五個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的水。

電子行業(yè)純水設(shè)備要求

隨著電子和半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展，人們對生產(chǎn)中所使用的超純水的質(zhì)量要求在不斷地提高，超純水的標(biāo)準(zhǔn)也在不斷提高。目前超純水的要求主要有:水的電阻率接近理論值，25℃下為18Mcm;對微粒、細(xì)菌等有害雜質(zhì)的控制也是極其嚴(yán)格的，因?yàn)槲⒘?huì)使半導(dǎo)體的外延層產(chǎn)生尖峰，光刻過程產(chǎn)生***，而細(xì)菌本身可視作微粒，且體內(nèi)含有鈉、鉀、磷等多種微量金屬元素，總有機(jī)碳(T 0 C)也會(huì)對形成氧化膜產(chǎn)生不良影響。

進(jìn)水質(zhì)量、運(yùn)行流量和樹脂粒度均勻性等主要因素對電子級超純水精制混床離子交換樹脂出水質(zhì)量的影響。出水質(zhì)量隨著進(jìn)水質(zhì)量的提高而提高，運(yùn)行流量控制在50一70B V/h時(shí)為佳，采用粒度更均勻的樹脂出水質(zhì)量和周期制水量更好。在一定的運(yùn)行條下，電子級超純水精制混床離子交換樹脂完全能滿足電子行業(yè)對出水水質(zhì)的要求。

純凈水設(shè)備技術(shù)雖在我國起步較晚超濾純凈水設(shè)備技術(shù)雖在我國起步較晚但發(fā)展非常迅速，隨著這項(xiàng)技術(shù)的不斷推廣和人們對它認(rèn)識的不斷提高，飲料生產(chǎn)行業(yè)必將從中獲得更多的益處。　　

純凈水設(shè)備的預(yù)處理由石英沙、活性炭、精密過濾裝置組成，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物，色素、異味、生化有機(jī)物，降低水的余氨值及農(nóng)藥污染等有害的物質(zhì)。如果原水中鈣鎂離子含量較高時(shí)，還需增加軟水裝置，主要目的在于保護(hù)后級的反滲透膜不受大顆粒物質(zhì)的破壞，從而延長反滲透膜的使用壽命。