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公司基本資料信息
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一、技術原理:
光氫離子凈裝置是利用高強度的寬頻光子波發(fā)生管和特殊高分子材料制作的光催化媒介,產(chǎn)生離子、電子、低濃度氧離子、過氧化氫、羥自由基以及大量的負離子。
1. 利用O3(臭氧)的強氧化性
光氫離子催化氧化設備是利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產(chǎn)生臭氧。眾所周知臭氧具有極強的氧化性,主要利用185nm紫外線持續(xù)和O2結合產(chǎn)生臭氧來分解有機廢氣。
2.“七種催化涂層技術”加強了-C波段紫外線照射數(shù)倍;增加了-C波段光段的反射,使-C波反射再次利用;次涂層材料屬于惰性材質,在-C波段紫外線的照射下?lián)]發(fā)催化劑進行廢氣再次催化。徹底去除廢氣中有毒、有害、有味氣體。
3.臭氧在該光量子的作用下可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、活性氧和羥基氧等活性基團,一部分惡臭物質也能與活性基團反應,最終轉化為CO2和H2O等無害物質,從而達到徹底去除惡臭氣體的目的。當控制反應條件,可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或使速度很慢的化學反應變得十分快速,大大提高了反應器的作用效率。