高純水設備

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電子行業(yè)純水設備要求

隨著電子和半導體工業(yè)的發(fā)展，人們對生產中所使用的超純水的質量要求在不斷地提高，超純水的標準也在不斷提高。目前超純水的要求主要有:水的電阻率接近理論值，25℃下為18Mcm;對微粒、細菌等有害雜質的控制也是極其嚴格的，因為微粒會使半導體的外延層產生尖峰，光刻過程產生***，而細菌本身可視作微粒，且體內含有鈉、鉀、磷等多種微量金屬元素，總有機碳(T 0 C)也會對形成氧化膜產生不良影響。

進水質量、運行流量和樹脂粒度均勻性等主要因素對電子級超純水精制混床離子交換樹脂出水質量的影響。出水質量隨著進水質量的提高而提高，運行流量控制在50一70B V/h時為佳，采用粒度更均勻的樹脂出水質量和周期制水量更好。在一定的運行條下，電子級超純水精制混床離子交換樹脂完全能滿足電子行業(yè)對出水水質的要求。

典型實驗室超純水系統(tǒng)組成純水制備系統(tǒng)

以自來水作為進水，制備符合實驗室用水標準的二級或三級純水的設備。實驗室每天純水的用量有可能從數升到數百升不等。在設計之處首先應該考慮的是：確定使用者所需純水的水質和用水量，并據此計算出使用者所需純水制備設備的小時流量。通常建議純水制備系統(tǒng)每天工作小時以8小時左右為宜，工作時間過長不但增加耗材消耗量，也減少整個純水制備系統(tǒng)的壽命；過少則對純水制備效率有影響。        

純水儲存系統(tǒng)

儲存系統(tǒng)在每日高峰用水之間可以起到緩沖的作用，使得純水制備系統(tǒng)有足夠的時間生產出實驗室每日所需的純水。同時純水儲存水箱必須能夠保證純水的水質穩(wěn)定免受污染。水箱的材料和諸多設計細節(jié)都會影響到水箱所存儲純水的水質。

超純水系統(tǒng)

實驗室超純水系統(tǒng)在設計時就應該明確的超純水的用途。根據具體應用不同，超純水的水質及其純化元件也有不同。根據超純水的用途，需要選擇合適的超純水純化元件。例如可以去除有機物的紫外燈、可以去除熱原的超濾膜柱等。

電子行業(yè)純水設備要求

隨著電子和半導體工業(yè)的發(fā)展，人們對生產中所使用的超純水的質量要求在不斷地提高，超純水的標準也在不斷提高。目前超純水的要求主要有:水的電阻率接近理論值，25℃下為18Mcm;對微粒、細菌等有害雜質的控制也是極其嚴格的，因為微粒會使半導體的外延層產生尖峰，光刻過程產生***，而細菌本身可視作微粒，且體內含有鈉、鉀、磷等多種微量金屬元素，總有機碳(T 0 C)也會對形成氧化膜產生不良影響。

進水質量、運行流量和樹脂粒度均勻性等主要因素對電子級超純水精制混床離子交換樹脂出水質量的影響。出水質量隨著進水質量的提高而提高，運行流量控制在50一70B V/h時為佳，采用粒度更均勻的樹脂出水質量和周期制水量更好。在一定的運行條下，電子級超純水精制混床離子交換樹脂完全能滿足電子行業(yè)對出水水質的要求。