UV光解除臭設(shè)備應(yīng)用的是一種光催化氧化技術(shù),光氧化是常溫下深度光降解有機(jī)廢氣污染物技術(shù),該技術(shù)通過特定波長的UV燈作為光源,通過催化劑激發(fā)產(chǎn)生不同能量的光量子;所過所產(chǎn)生的光量子的對(duì)有機(jī)物進(jìn)行降解。
UV光解除臭設(shè)備內(nèi)部的UV燈不需要加溫,僅在常溫下可以產(chǎn)生大量攜能光量子,在高能光量子轟擊下,使氧分子解離產(chǎn)生臭氧,臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用;同時(shí)催化劑二氧化鈦在該光量子分解作用下可產(chǎn)生大量活性自由基,有機(jī)廢氣物質(zhì)也能吸附在催化劑表面,查與活性基團(tuán)反應(yīng),最終降解轉(zhuǎn)化為CO2和H2O、低分子化合物等無害物質(zhì),從而達(dá)到有效凈化有機(jī)廢氣VOCs的目的。
有機(jī)惡臭氣體在風(fēng)機(jī)的作用下UV光解除臭設(shè)備后,UV凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束、臭氧O3及納米光催化TiO2等技術(shù)組合起來對(duì)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使廢氣降解轉(zhuǎn)化成無害無味化合物、水和二氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出,經(jīng)過處理后有的機(jī)廢氣排遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過國家排放標(biāo)準(zhǔn)。 UV光解除臭設(shè)備用于噴涂廠、噴涂廠、煉油廠、橡膠廠、塑料廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體、工業(yè)有機(jī)廢氣的凈化處理,是目前投資運(yùn)營成本低、維護(hù)方便、凈化效果好的工業(yè)除臭設(shè)備。
UV光解除臭設(shè)備主要是采用納米光催化TiO2來分解,其作用機(jī)理簡(jiǎn)單來說:納米光催化劑TiO2在特定波長的光的照射下受激生成'電子一空穴'對(duì)(一種高能粒子),這種'電子一空穴'對(duì)空氣中氧氣發(fā)生作用后,就具有了極強(qiáng)的氧化-還原能力,能將空氣中醛類、烴類等污染物直光接分解成無害無味的物質(zhì),以及破壞細(xì)菌的細(xì)胞壁,殺滅細(xì)菌并分解其絲網(wǎng)菌體,從而達(dá)到了不效消除有機(jī)廢氣污染物的目的。
UV光解除臭設(shè)備用于煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機(jī)和無機(jī)物 惡臭氣體的脫臭凈化處理。