柯美BH363定影器數(shù)碼復(fù)印機(jī)定影組件

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曝光方式

   所謂“曝光”是指原稿通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)(包括曝光燈、反光策、反射鏡、光鬧及鏡頭

等》將光像投射在已充電敏化的光導(dǎo)體膜層上，并使充電過(guò)程中光導(dǎo)層上原為均勻分布的

電荷，因受到一定量級(jí)光能的作用，而使其局部表面的電位有所下降，形成為與原稿圖

像相對(duì)應(yīng)的由電荷組成的靜電潛像.

   高壓電Vil內(nèi)阻電源的內(nèi)阻(即高壓發(fā)生器的內(nèi)阻)，對(duì)于電暈電流會(huì)產(chǎn)生很明顯的

影響.在設(shè)計(jì)各種電暈充電的電暈器時(shí)，其主要根據(jù)是光導(dǎo)體材料的性質(zhì)和進(jìn)行辭電復(fù)

印的整機(jī)要求.而設(shè)計(jì)高壓電源時(shí)，應(yīng)以電暈充電的要求作為依據(jù)，具體而言，應(yīng)取決于

電暈充電電極和光導(dǎo)層表面之問(wèn)的距離.即在負(fù)載固定的條件下，高壓電源的空載電壓和

內(nèi)阻必須合理.否tI1，充電電流不足，光電導(dǎo)材料的最大靈敏度不能充分發(fā)揮和利用，靜

電潛像的反差電位小.電壓過(guò)高時(shí)，會(huì)造成擊穿放電而損壞光導(dǎo)層.對(duì)于電源內(nèi)阻，應(yīng)考

慮使負(fù)載能獲得最大功率作為條件，即應(yīng)盡力做到使電源內(nèi)阻和負(fù)載電阻相等的條件.

   為了提高靜電復(fù)印的效率和實(shí)現(xiàn)高速化，光導(dǎo)體感光度的高低是具有決定作用的。

當(dāng)光導(dǎo)體表面被充電以后，在光的照射下，光導(dǎo)層由于光的激勵(lì)，生成空穴一電子對(duì)，

在電場(chǎng)的作用下，空穴與電子分別向不同方向遷移，移動(dòng)時(shí)產(chǎn)生光電流，使得表面電

位衰減，這種衰減與曝光最的大小、時(shí)間的長(zhǎng)短有關(guān)，曝光量大或曝光時(shí)間長(zhǎng)的，生成

的光生自由載流子越多，則表面電位衰減得越快，反之則光生自由載流子就越少，表面

電位衰減得越慢.這種表面電位在光照下的衰減，稱為“亮衰減”或“亮衰，，(參見(jiàn)圖

2-2中的‘a(chǎn)-V:所示).不同的光電導(dǎo)材料在同樣的光線照射下，表面電位的衰減程度

是不同的.這種不同的亮衰速度，就是光導(dǎo)體的感光靈敏度，或稱感光度.