大多復(fù)印機制造廠商在機器硬件的設(shè)計上還缺乏實際應(yīng)用聚合墨粉的育助與條件.墨粉的發(fā)展經(jīng)常需要硬件和墨粉材料共同發(fā)展.這就意味著開發(fā)聚合墨粉,硬件制造商必須要在硬件中能夠運用聚合墨粉之前開發(fā)墨粉技術(shù).在聚合墨粉技術(shù)發(fā)展中,新技術(shù)的探索和IP的挑戰(zhàn)將會把更潛在的障礙一一暴露出來.
另外,“墨粉工業(yè)”在傳統(tǒng)墨粉制造設(shè)備中投資巨大,很多制造廠當前都有成熟的自動化生產(chǎn)線.制造聚合墨粉所需的投資要更多.目前,尚未頒布從傳統(tǒng)的墨粉轉(zhuǎn)變?yōu)榫酆夏酆髮Νh(huán)境的影響是否更小的說法,保護環(huán)境的意識并沒有領(lǐng)先于工業(yè)意識.新出臺的法律突出了聚合墨粉的生產(chǎn)在減少污染物方面的潛在能力.
充電裝置的基本要求
電暈充電裝置配有高壓發(fā)生器,將高電下施加于電極上以產(chǎn)生強電場,使周圍空氣
電離并發(fā)生電暈放電.靠電場力的作用,將某種極性的離子吸附在光導(dǎo)層表面.對于充
電裝置和轉(zhuǎn)印裝置,一般采ill直流電暈放電,以保證光導(dǎo)層表面和轉(zhuǎn)印介質(zhì)表面的靜電
荷穩(wěn)定.而對千消電裝置,有的機器是采用交流電暈放電,而有的機器采用直流電暈放
電,即極性和免電相反.
為使充電裝置能獲得理想的充電效果,須提出下列要求:
(1)對于光導(dǎo)層表面,應(yīng)能在規(guī)定時間內(nèi)帶上靜電荷,并要求其極性正確,密度適
當,分布均勻,
(z)由于使用條件和周圍環(huán)境會有所改變,例如溫度和濕度的變化,為此,要求充
電裝FL應(yīng)具有一定的調(diào)整范田,以消除或彌補其對復(fù)印質(zhì)量的影響;
(3)要求充電裝段經(jīng)久耐用、安全可袋;
(4)當電源電壓及領(lǐng)率有波動時,·充電裝置性能應(yīng)穩(wěn)定,即輸出特性基本不變,
(5)充電裝置和負我(空氣隙、光導(dǎo)體等)阻抗應(yīng)互相匹配,方能發(fā)揮最高效率.
當前.國內(nèi)外均采用屯暈法充電,整個裝置的結(jié)構(gòu)簡單,性能可靠,所形成的表面
電位高,靜電荷密度分布均勻.但其要求6-7kV的高電壓,致使高壓電源的結(jié)構(gòu)復(fù)
雜.而環(huán)境條件(溫度和M.度)變化時,對于充電效果會有影響.由于空氣的電離,將產(chǎn)
生臭氧(Os),對人體健康有一定的影響
目前存在于自然界的物質(zhì),在常溫常壓環(huán)境條件下會表現(xiàn)出固態(tài)、液態(tài)
或氣態(tài)的存在形式例如水呈現(xiàn)是液態(tài)C02呈現(xiàn)氣態(tài)如果把C02降溫到一78.5
℃,會變?yōu)楣虘B(tài)。科學(xué)家發(fā)現(xiàn)當C02處于溫度為31.1 0C,壓力為7.4Mpa時會
處在一個非液非氣的混沌狀態(tài),此時,它具有液體對溶質(zhì)的溶解性,又兼有氣態(tài)
物質(zhì)的高擴散分散性,這時的C02被稱為是C02的超臨界流體。目前,把C02
超臨界流體作為加工介夙主要應(yīng)用于萃取技術(shù)近來美國Ferros公司把C02
超臨界流體溶噴技術(shù)已應(yīng)用于制造粉末涂料,實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化,它為墨粉制造的新
技術(shù)提供了新思路。目前湛江惠能墨業(yè)公司與上海華東理工大學(xué)合作,正在開展
把C02超臨界流體做為加工介質(zhì),應(yīng)用于制造墨粉的研究工作。
選用C02超臨界流體作加工介質(zhì),是因為C02資源廉價,安全性好,
而且方便于在常溫條件下用,沒有污染環(huán)境問題,是目前應(yīng)用超臨界流體技術(shù)的
首選材料。